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一种干刻机的上电极结构[实用新型专利]

来源:刀刀网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:一种干刻机的上电极结构专利类型:实用新型专利发明人:郑建博

申请号:CN201220169321.0申请日:20120419公开号:CN2026631U公开日:20130109

摘要:本实用新型提供一种干刻机的上电极结构,包括电极板和设置于电极板上的九个线圈;所述九个线圈呈矩阵式排列。本实用新型通过在上电极的电极板上矩阵式的设置9个线圈,使得基板在正常等离子刻蚀中,可实现对腔室等离子的密度进行九个区域控制,有利于控制干刻中出现的刻蚀不均匀;在蚀刻法生产中不仅可以提高改善干刻制程中产生的不均匀问题,并且可以实现基板中心及四角同步刻蚀,提高刻蚀效率;经干刻法生产后,基板就不会由于基板中心及四角等离子密度不同,致使刻蚀速率不一,造成刻蚀不均匀,同时可以提高基板的刻蚀效率。

申请人:彩虹(佛山)平板显示有限公司

地址:528300 广东省佛山市顺德区大良街道五沙新悦路13号

国籍:CN

代理机构:西安通大专利代理有限责任公司

代理人:田洲

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